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Le point de fusion du creuset doit évidemment être supérieur à celui du matériau à déposer. Induction: le métal à évaporer est chauffé par un courant induit par une bobine parcourue par un courant haute fréquence. Bombardement électronique (e-beam): La cible est bombardée par un faisceau d'électrons qui va vaporiser le matériau. L'évaporation permet généralement d'avoir des vitesses de dépôts élevées, mais le flux métallique évaporé est unidirectionnel et limite de ce fait la géométrie des pièces qu'il est possible de revêtir. On citera toutefois comme objets de la vie courante, les CD et DVD qui sont souvent réalisés par évaporation. Évaporation sous vide poches. 3. Pulvérisation cathodique En 1852, Grove, puis en 1858, Plucker, constatent qu'une décharge électrique entre deux électrodes séparées par un gaz sous très basse pression entraîne la formation d'un film mince à l'anode constitué du même matériau que la cathode. C'est la découverte de la pulvérisation cathodique mais ce n'est finalement qu'à partir des années 1950 que la pulvérisation cathodique commence son expansion, en particulier en 1972 avec l'invention de la cathode magnétron.
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Le plasma est alors auto-entretenu par les électrons libérés lors des collisions avec les atomes de gaz et ceux émis par la cathode, ce tant que le champ électrique est présent. Les ions chargés positivement (Ar +) vont venir frapper la surface de la cible (cathode) polarisée négativement. Évaporation sous vide greniers brocantes. Ces collisions vont provoquer des transferts de quantité de mouvement qui se traduiront par l'expulsion d'atomes de la cible qui vont former une vapeur métallique. Celle-ci va se condenser sur les pièces à traiter. Les atomes vont former des îlots sur le substrat puis vont diffuser pour former une structure colonnaire (contrairement aux revêtements galvaniques qui sont plutôt lamellaires). On peut résumer la pulvérisation cathodique comme un phénomène mécanique de transfert de quantités de mouvement, celles-ci étant obtenues par accélération d'électrons puis d'ions gazeux sous l'effet d'un champ électrique. Les phénomènes mis en jeu lors du traitement, imposent des conditions de résistance des substrats à certains paramètres tels que la température (300°C), la pression (10 -6 mbar sans dégazer) ou encore le bombardement ionique et imposent que les pièces à recouvrir soient conductrices, faute de quoi on aura l'apparition d'arcs électriques pouvant conduire à la destruction de la pièce.
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L'énergie des ions est ainsi transférée aux atomes évaporés qui vont s'adsorber sur la surface. Ils ont donc une plus grande énergie, ce qui confère une plus grande adhérence aux dépôts. 5. BIAS et décapage ionique Pour cette technique, on inverse temporairement la polarité du substrat. Ce qui va permettre d'obtenir des dépôts plus denses. Évaporation sous vide.fr. En prétraitement, on peut polariser négativement le substrat et allumer le plasma, les ions Ar + vont alors bombarder les pièces à traiter et il se produira un enlèvement de matière: c'est le décapage ionique (etching).