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Il existe trois types de pulvérisations cathodiques: la pulvérisation diode (la plus simple), la pulvérisation triode et la pulvérisation cathodique magnétron. Les deux premières étant quasiment incompatibles avec une utilisation industrielle je m'intéresserai ici uniquement à la dernière. La pulvérisation cathodique magnétron: Une cathode magnétron est pourvue d'un aimant placé derrière celle-ci permettant d'augmenter les probabilités de collision des électrons avec les atomes d'argon et d'avoir un plasma plus dense. Évaporation sous vide principe. Cette technique permet de réaliser des dépôts sous atmosphère réactive (ajout d'un gaz) ainsi que d'alliages. Le confinement magnétique permet une vitesse de dépôt élevée et il est possible de revêtir des pièces avec des géométries relativement complexes. Principe de la pulvérisation cathodique magnétron: Une différence de potentiel est établie entre la cathode et l'anode en présence d'un gaz plasmagène (argon en général). Sous l'effet du champ électrique les électrons libres présents dans le gaz (présent du fait des radiations ou des rayons cosmiques) vont rentrer en collision avec les atomes d'argon et si leur énergie est suffisante, vont pouvoir ioniser ces atomes qui vont à leur tour libérer un électron: L'émission électronique va provoquer une réaction en chaîne et générer un plasma d'argon électriquement neutre constitué d'atomes d'argon, d'électrons et d'ions argon.